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美光科技宣布,開始為特定智慧型手機製造商與晶片組合作夥伴提供 1β(1-beta)DRAM 技術的驗證樣品,全球最先進的 DRAM 製程節點 1β 的量產全面就緒。此新世代製程技術將率先用在美光的 LPDDR5X 行動記憶體上,最高速度來到每秒 8.5 Gb 等級。1β 節點顯著提高效能、位元密度,並改進功耗,這將帶來全面的市場優勢。除行動裝置外,1β 帶來的低延遲、低功耗、高性能 DRAM,更可支援各種高度回應式服務、即時服務、體驗的個人化與脈絡化,從智慧車輛到資料中心均可受惠。
1β 是全球最先進的 DRAM 製程節點,象徵美光自 2021 年 1α (1-alpha) 製程量產以來,市場領導地位再下一城。1β 節點降低功耗約 15%,提升位元密度超過 35% ,每顆晶粒容量可達 16Gb。
隨著 LPDDR5X 開始送樣,行動裝置生態系將率先受惠於 1β DRAM 所帶來的效能顯著提升,這將使得新一代的行動創新與先進的智慧型手機體驗成為可能,同時功耗更低。憑藉 1β 速度與密度,高頻寬使用情境將變得更加靈敏和流暢,不論是下載、啟動,或同時使用需要大量資料的 5G 和人工智慧(AI)應用程式。此外,使用 1β 製程的 LPDDR5X 不僅將強化智慧型手機相機的啟動、夜間模式、人像模式攝影,提高速度和清晰度,還可實現防手震、高解析度的 8K 影片錄製,以及在手機上直覺地編輯影片。
1β 製程技術的單位位元功率更低,為智慧型手機提供了市場上最節能的記憶體技術。智慧型手機製造商因此得以設計出電池續航力更久的裝置 — 有鑑於消費者希望在使用耗能、資料密集型的應用時,電池續航力能夠更持久,這點尤其重要。
功耗降低的另一功臣,則是這款採用 1β 節點的 LPDDR5X 所應用的全新 JEDEC 增強型動態電壓與頻率調整核心技術(enhanced dynamic voltage and frequency scaling extensions core, eDVFSC)。在 DDR 產品類別加入速率可高達每秒 3,200Mb 的 eDVFSC,可強化節能控制,根據獨特的最終用戶使用模式,提高電源使用效率。
先進微影技術與奈米級製造能力
美光業界第一的 1β 節點可將更高的記憶體容量塞入更小的空間內,從而降低每位元資料的成本。DRAM 的進展,向來主要取決於如何在每平方毫米的半導體面積內,提供更多和更快的記憶體,這就需要縮小電路,將數十億個記憶體單元收納在約莫指甲大小的晶片中。幾十年來,隨著每個製程節點的演進,半導體產業每一兩年縮小晶片尺寸縮小一次;然而,隨著晶片變得越來越小,在晶圓上界定的電路圖便需要挑戰物理定律的極限。
儘管業界已開始改用新工具EUV極紫外光設備來克服這些技術挑戰,美光仍利用先進奈米製造能力與微影技術來跳過尚在新興階段的EUV極紫外光技術。這需要應用美光獨門的先進多重曝光技術和沈浸式微影能力,以最高精確度做出這些微小的電路特徵。節點進一步縮小帶來容量提升,可讓智慧型手機和物聯網裝置等體積較小的裝置涵納更多記憶體。
為了讓 1β 和 1α 製程發揮競爭優勢,美光過去幾年也積極推動卓越製造、提升工程技術能力、強化開創性研發。加速創新首先讓美光比競爭對手提前一年實現前所未有的 1α 節點量產,達成公司史上首次在 DRAM 和 NAND 兩個領域同時居於市場領導地位。 多年來,美光投資數十億美元,將晶圓廠轉變為先進、高度自動化、由人工智慧驅動的永續營運設施。其中也包括美光對日本廣島廠的投資,廣島廠將以 1β 製程量產 DRAM。
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