荷蘭才禁ASML直接銷售DUV曝光機給中國，中國首台「國產」28nm DUV曝光機就被爆料年底出貨

曝光機是決定半導體生產製成水平高低的核心技術，包含光學系統、微電子系統、電腦系統、精密機械系統、控制系統等構件，極為複雜精密。而隨著半導體技術進入到5nm節點以內，對EUV曝光機的需求也不斷增長，目前全球只有ASML一家公司能夠生產EUV曝光機，可以說掌握了半導體生產的關鍵。

面對制裁，中國近年希望能把半導體生產的各種設備國產化，曝光機也是重要的一環。最近中媒報導，上海微電子正極力研發28奈米DUV曝光機，預計在2023年底將國產第一台SSA/800-10W曝光機交付市場。

曝光機可分為DUV、EUV兩大類，目前由荷蘭ASML佔絕對壟斷地位，日本的尼康(Nikon)、佳能(Canon)也有很強的實力。在最先進製程的EUV曝光機方面，中國相比於外國起步晚了50年，像是上海微電子的技術就與國外巨頭有很大的差距。

但在非最先進製程的中高階曝光機方面，SSA/800-10W曝光機就屬於這一類的產品，上海微電子似乎已經有自主生產的能力。

原本美國制裁的政策並沒有阻止中國廠商向ASML購買非最先進製程的中高階曝光機，但是《路透》6月30日報導，美國和荷蘭已達成協議，進一步管制晶片設備輸中。今年七月，荷蘭政府就宣布新法規，規定ASML的DUV曝光機也不能直接輸出中國。

而就在相隔一個月，上海微電子就被爆料年底可交付28奈米DUV曝光機，這個時間點也相當微妙。

不過，曝光機只是整個半導體製造產業鏈中的一環，還涉及到光阻劑、惰性氣體、光源、物鏡、塗膠顯影設備、光罩等諸多環節。想要完全變成「國產」，也沒有這麼簡單。

去年據中媒報導，北京政府撥款1400億美元（折合約4.3兆元新台幣）要振興本土半導體產業，補助包括購買中國製造的晶片生產設備等。而上海微電子裝備和其它的中國同業，主要把產品賣給中國國內晶圓廠的廠商為最大的受惠者。

近年來，ASML已經成為世界半導體技術的中心位置。去年ASML兩次提高了生產目標，希望到2025年，其年出貨量能達到約600台DUV（深紫外光）曝光機以及90台EUV（極紫外光）曝光機。