ASML向英特爾交付首台high-NA EUV曝光機，一台要價超過4億美元

荷蘭半導體裝置製造巨頭ASML確認，已經向英特爾交付首台高數值孔徑（NA）的極紫外（EUV）曝光系統。數值孔徑是用來衡量光學系統能夠收集的光的角度範圍，通過增大數值孔徑，可以實現更小的解析度和更高的分辨能力，從而滿足微細加工的要求。

據介紹，每台新機器的造價成本超過3億美元，可以滿足一線晶片製造商的需求，未來十年內能夠製造更小、更好的晶片。

ASML發佈了這台機器的一部分從荷蘭維爾德霍芬總部出發的照片，照片中機器的一部分被裝在一個保護盒裡，周圍還繫著一條紅絲帶。ASML同時表示：「我們很興奮，也很自豪能將我們的第一個high-NA EUV系統交付給英特爾。」

這台機器組裝後將比一輛卡車還大，將用250個獨立貨箱運送，其中包括13個大型貨櫃，預計將從2026年或2027年開始用於商用晶片製造。

英特爾的「四年五節點製程」包括Intel 7、Intel 4、Intel，以及20A、18A製程，其中18A預計將在2024下半年進入量產。除了英特爾外，台積電、三星、SK海力士和美光等也都訂購了這款機器。

至於high-NA EUV售價到底多少，目前還沒有一個可以證實的說法，但是光是前代EUV曝光機就賣到1.5億美元以上，這兩年還有通膨等因素，價格至少4億美元起跳。

考慮到安裝、偵錯及生產的週期，未來台積電、三星會主要在2nm節點使用，而高NA孔徑的下一代曝光機要解決的是1nm及之後的技術。