宇瞻科技獲抗硫化記憶體獨家專利　為IPC產業解決高污染環境硫化腐蝕問題

宇瞻科技研發之適用於含硫環境的抗硫化系列記憶體，日前此已廣受肯定並陸續取得多國專利，全新抗硫化記憶體不僅能有效解決環境污染產生的硫化腐蝕現象，提升系統整體使用壽命，亦能滿足系統在惡劣環境下長時間穩定運作的需求，確保產品可靠性與耐用度。

記憶體模組的隱形殺手-電阻硫化

    不同於一般標準型記憶體模組相對穩定的應用環境，由於工業電腦常需於高溫或高污染等環境下運作，因此工控記憶體產品需因應各種不同特殊的應用環境予以客製化設計，宇瞻科技藉由抗硫化技術強化記憶體模組抵抗高污染環境下硫化腐蝕問題，可大幅提升工業電腦整體系統之穩定性。高污染環境中濃度超標的懸浮微粒含有大量硫化氣體，易與電阻中作為導體的電極層的銀材料化合產生絕緣體硫化銀，導致電阻阻值增加，甚至形成開路而失效，尤以汽車電子、基地台通訊等設備因常暴露於污染大氣中，出現硫化腐蝕現象影響更甚，宇瞻科技全新抗硫化記憶體模組絕佳的抗硫化特色，有效解決電阻硫化所產生的產品可靠度與耐用度問題。 

抗硫化技術與寬溫支援，解決高溫加速電阻硫化問題

    工業電腦長期曝露於高溫及高濃度的硫化物氣體中，高溫會加速電阻硫化的形成，而硫化速度快會縮短產品使用期限。宇瞻科技開發全球第一款工規寬溫抗硫化記憶體模組，結合抗硫化並支援寬溫，在高污染的含硫環境與嚴苛的極端氣候下仍能穩定運作。宇瞻科技獨家專利抗硫化記憶體模組特別適用於嵌入式工業電腦系統，滿足IPC產業在嚴苛環境下長時間穩定運作的需求。

革命性的創新技術應用，未來IPC產業主流規範

    電子產品硫化的問題目前逐漸受到重視，尤其對需要高可靠度與長時間運作的工業電腦產品更加重要，抗硫化的技術勢必成為未來IPC產業的主流規範，宇瞻科技根據抗硫化專利技術所製造的抗硫化記憶體除有寬溫支援，為了讓訊號傳輸更穩定，專為抗硫化記憶體模組設計遠超過一般業界採用 3µ標準的10倍 - 厚度高達30µ的金手指(Gold finger)，可靠度表現再升級，為高污染環境的工業控制系統、汽車電子、醫療、國防、網通、戶外基地台，甚至採礦控制系統等設備，帶來強固的技術與多重防護機能，是在嚴峻環境下運行的工業用系統之最佳解決方案。

宇瞻科技DDR4抗硫化系列記憶體規格: