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在上月的 IEEE VLSI Symposium 會議期間,英特爾聲稱其已做好了縮小半導體製程節點的準備。而用上了 EUV 極紫外曝光的 Intel 4(7nm)製程後,得以讓晶片在消耗相同或更少功率的情況下提升 20% 以上的性能、或在相同頻率下獲得大約 40% 的優勢。
與英特爾之前的 Intel 7(10nm)ESF 技術節點相比,Intel 4(7nm)製程不僅將電晶體密度提升了兩倍、還能夠達成更強勁的表現。
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此前該公司在從 14nm 向 10nm 製程轉進的過程中消耗了相當長的時間,但在拖延了數年之後,DigiTimes 稱其將進一步加速。
報導指出,Intel 3 製程將於 2023 下半年開始增加產能,並帶來相較於 Intel 4 製程達 18% 的性能提升。
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據悉,新 Intel 4 節點將為 14 代 Meteor Lake 消費級 Core 產品線、以及企業級的 Granite Rapids 至強 CPU 提供支撐。
雖然作為 12 代 Alder Lake 晶片的繼任者,我們距離 13 代 Raptor Lake 的發布還有較長的一段時間。
但若能穩定延續既定的目標,藍廠將不會在 AMD 的步步緊逼下,持續讓合作夥伴和廣大客戶感到失望。
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此外英特爾有計畫在量產版的 Meteor Lake 處理器上率先引入小晶片設計,輔以靈活的 Tile 架構 + Foveros 3D 封裝。
與此同時,競爭對手 AMD 會用上台積電的 N5 / N4 製程,並繼續在內建了 RDNA 內顯的 APU 產品線上發力。
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不過在此之前,我們還是更加期待 13 代Core和Ryzen 7000 系列 Zen 4 處理器的市場表現。
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