ASML：所有EUV客戶均訂購了下一代high-NA EUV曝光機，單價翻倍到122.5億

ASML正抓緊研製其下一代高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）曝光機，在發佈最新財報期間，AMSL透露，其存量EUV客戶均訂購了新一代裝置。具體來說，在Intel和台積電之後，三星、SK海力士、美光等也下單高high-NA EUV曝光機了。

儘管目前包括台積電、英特爾、SK海力士、美光等國際半導體大廠都陸續下修資本支出，然而對於曝光機的錢還是不能省。

像是台積電之前在2022年技術論壇時，研發資深副總經理米玉傑就表示，台積電將於2024年引進高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）曝光機，以協助客戶推動創新；英特爾則在更早之前也宣稱率先取得設備，預計2025年量產。

先前根據韓國媒體報導，三星集團將要下訂10台的高階製程需要用的ASML的極紫外光設備（EUV），預備未來在記憶體、晶圓代工產能可以擴大。畢竟景氣不好是一時的，未來的半導體產業依然還是一場裝備戰。

而高NA EUV曝光機允許加工更精密的半導體晶片，生產效率也更高，它也是2nm及更先進製程的必要條件。

根據韓國裝置商透露，現款EUV曝光機的訂貨價是2000~3000億韓元（約合49~74億元台幣），而高NA EUV曝光機的報價翻倍到了5000億韓元（約合122.5億元台幣）。

據瞭解，在三季度財報中，ASML完成58億歐元的淨銷售額，毛利率51.8%、淨利潤17億歐元，公司預計四季度淨銷售額在61~66億歐元之間。

CEO Peter Wennink表示，其三季度預訂產品的銷售額達到創紀錄的89億歐元，其中EUV裝置就有38億歐元。