半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)公布了今年第二季財報,銷售淨額為69億歐元,淨收入19億歐元,毛利率為51.3%,第二季度訂單金額為45億歐元,其中16億歐元為EUV。
4月至6月的訂單量為45億歐元(台幣1568億元),比上一季增長20%,比分析師平均預期39.8億歐元還要多。顯示市場對晶片製造設備的需求回升,半導體業的低迷期可能即將結束。
ASML首席執行長Peter Wennink表示,今年公司上調全年營收預期,預計今年淨銷售額增至30%,這主要歸功於本季度浸潤式DUV營收增加。
由於去年通膨和經濟衰退,讓全球電子產品的銷售持續走低,因而半導體產業也走緩,晶片的需求減少,對於曝光機的需求也減少,年初甚至傳出台積電將砍掉四成的EUV訂單。
此外,艾司摩爾於今年夏天開始也被要求禁止向中國出口可能兼具「軍事用途」的設備,在此之前,中國一直是艾司摩爾的第三大市場。而且也被禁止向中國公司出售最先進的技術,即所謂的極紫外曝光(DUV)技術。
年初ASML CEO在採訪中提到他們在全球有5家EUV曝光機客戶。雖然沒有提到實際的名單,但是台積電、三星、Intel這三家是確定的,雖然只有5家客戶,但是最近幾年對EUV曝光機的需求提升很快,ASML預計今年會出貨60台EUV曝光機,而DUV曝光機達到375台,數量依然遠高於EUV。
ASML表示,由於總體經濟不確定性依舊持續,半導體產業復甦的速度也尚未明朗。不過,公司的積壓訂單金額約380億歐元可應對這些短期的不確定性。
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