美國晶片巨頭英特爾宣佈，已開始組裝ASML的高數值孔徑（High-NA）極紫外（EUV）曝光機，這是其超越競爭對手的重要一步。英特爾是首家購買ASML新一代曝光機的公司，這台機器的售價高達3.5億歐元（約合3.73億美元）。儘管存在一定的財務和工程風險，但該裝置預計將能夠生產體積更小、處理速度更快的新一代晶片。
在與記者的交流中，英特爾曝光部門主管馬克·菲利普斯（Mark Phillips）表達了對其決策的堅定信心：「我們在決定購買這些裝置時就已經認可了它們的價格。如果我們不認為這些裝置物有所值，我們根本不會採購。」
ASML是歐洲最大的科技公司，在曝光機市場佔據主導地位。曝光機是一種利用光束幫助製造晶片電路的裝置，是晶片製造商用以提升晶片性能的核心技術之一，它決定了晶片上電晶體的最小寬度——電晶體寬度越小，晶片的處理速度通常越快，能效也越高。
新一代高數值孔徑（High NA）光刻工具預計能大幅減小電晶體的寬度，達到原來的三分之一。然而，晶片製造商必須在這種顯著的成本提升和技術優勢之間進行權衡，並考慮現有技術的可靠性是否已足夠滿足需求。
英特爾的錯誤
英特爾決心率先採用高數值孔徑極紫外曝光機並非偶然。
英特爾雖曾參與開發極紫外曝光技術，但在開始使用ASML首款極紫外曝光機上卻晚於其競爭對手台積電。英特爾首席執行長帕特·基辛格（Pat Gelsinger）承認，這是一個嚴重的失誤。
與此同時，英特爾專注於所謂的「多重曝光」技術的開發，其本質是使用解析度較低的曝光機對晶圓進行多次曝光，以達到與高階機器相同的效果。
菲利普斯表示：「那就是我們開始遇到麻煩的時候。」
儘管傳統的DUV曝光機成本較低，但複雜的多重曝光操作耗時且降低了晶片的良品率，這減緩了英特爾的業務發展。
英特爾目前已經在製造最關鍵的晶片部件時使用了第一代極紫外曝光機，菲利普斯預計，轉用高數值孔徑極紫外曝光機將會更加順利。
他說：「現在我們已經有了期待已久的新一代極紫外曝光機，我們不想再犯過去的錯誤。」
菲利普斯還表示，位於俄勒岡州希爾斯伯勒園區的這台新機器預計將在今年晚些時候全面投入使用。
英特爾計畫在2025年使用這台巨大的機器開發14A代晶片，並預計在2026年開始初步生產，到2027年實現全面商業化生產。
ASML在本週公佈的最新財報中表示，已開始向一位客戶發運第二套高數值孔徑極紫外曝光機。這位客戶可能是台積電或三星。
由於這些大型裝置的運輸和安裝可能需要長達六個月的時間，因此英特爾此舉已經佔據了先機。
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