ASML 最先進 EUV 曝光機今年訂單已經被 Intel 包攬，其單台售價超過了台幣113億元。據悉，ASML 截至明年上半年最先進 EUV 裝置的訂單已經由英特爾承包，而今年計畫生產的五套裝置也將全部運給這家美國晶片製造商。
按照消息人士的說法，由於上述 EUV 裝置產能每年約為 5 到 6 台，這意味著英特爾將獲得所有初始庫存。
這也導致，英特爾的競爭對手三星和 SK 海力士預計將在明年下半年才能獲得該裝置。
High-NA EUV 曝光機能夠在半導體上蝕刻出僅 8nm 寬的線條，是上一代產品的 1/1.7。
更細的線條意味著晶片可以容納更多的電晶體，從而實現更快的處理速度和更高的儲存容量，這對於人工智慧工作負載至關重要。
這台EUV已於去年年底運抵其位於俄勒岡州的D1X工廠，英特爾計畫在2025年年底開始使用該系統進行生產。
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