韓媒爆台積電魏哲家密訪ASML 總部，2nm製程競賽開打

根據韓媒 Business Korea 報導，台積電首席執行長魏哲家撇開了 5 月 23 日自家舉辦的台積電 2024 技術研討會，前往荷蘭訪問位於 Eindhoven 的 ASML 總部，以及訪問德國 Ditzingen 的工業雷射專業公司 TRUMPF。

ASML 首席執行長 Christophe Fouquet 和 TRUMPF 首席執行長 Nicola Leibinger-Kammüller 通過社群媒體透露了魏總秘密出訪的行蹤。

首席執行長 Fuke 表示：「我們向魏總介紹了我們的最新技術和新產品，包括高數值孔徑（High NA）EUV 裝置將如何實現未來的半導體微處理技術。」

台積電先前已公布的規畫圖與最新進展，A16（1.6nm）製程工藝預計將於2026年下半年量產，將搭載先進的背面供電（Backside Power Delivery）技術，台積電稱其為「超級供電軌」（Super Power Rail），可以提升晶片能效表現。

據業界消息，台積電並沒有為A16製程準備High-NA EUV曝光機，而是準備採用現有EUV曝光機生產。相比之下，Intel、三星都將在這一節點使用最新的High-NA EUV曝光機。

先前台積電張曉強博士於 5 月 14 日出席在阿姆斯特丹舉辦的技術研討會，他直言：「ASML 的 High-NA EUV 太貴了，我非常喜歡 High-NA EUV 的能力，但不喜歡它的價格。」

台積電正考慮為劃於 2026 年下半年量產的 1.6 奈米產品 A16 之後的製程引入 High NA EUV 裝置，同時在此之前使用現有 Low NA EUV 裝置。