光學巨頭授權戰：尼康起訴蔡司，指其未經授權使用獨家微影技術

尼康今日宣佈，對荷蘭半導體業微影(光刻)系統設備供應商ASML和德國光學及光電子學裝置廠商卡爾蔡司（Carl Zeiss）提起訴訟，指控這兩家公司未經授權而使用其微影技術。

尼康在一份聲明中稱：「ASML和卡爾蔡司在未經尼康許可的前提下，在ASML的微影系統中使用了尼康的專利技術。」目前尼康已在荷蘭、德國和日本對ASML和卡爾蔡司提起訴訟。而卡爾蔡司則是ASML的光學裝置供應商。

在積體電路生產流程中，最重要且關鍵的製程技術莫過於微影 (lithography) 技術。簡而言之，微影就是將電路設計圖影像微縮投射在晶片上。ASML專精於晶片微影設備之設計製造與整合，主導著半導體微影設備市場。評級機構「惠譽評級」（Fitch Ratings）今年1月發佈的調研報告顯示，在高階微影設備市場，ASML的市佔率高達90%。尼康在訴訟文件中稱，要求ASML和卡爾蔡司對未授權使用專利技術而做出賠償。

對此，ASML總裁兼CEO彼得·溫尼克（Peter Wennink）稱：「尼康的訴訟毫無依據，沒有必要，為半導體市場製造了不確定性。」溫尼克還稱，ASML曾多次試圖與尼康談判，希望能對當前的一份交叉授權協議進行延期。