2025年後電晶體進入埃米時代，ASML下一代EUV曝光機提前量產、單價突破3億美元

在上月的ITF大會上，半導體行業大腦imec（比利時微電子研究中心）公佈的藍圖顯示，2025年後電晶體進入埃米時代（Å，angstrom，1埃 = 0.1奈米），其中2025對應A14（14Å=1.4奈米），2027年為A10（10Å=1nm）、2029年為A7（7Å＝0.7奈米）。

當時imec就表示，除了新電晶體結構、2D材料，還有很關鍵的一環就是High NA（高數值孔徑）EUV曝光機。其透露，0.55NA的下代EUV曝光機一號試做機會在2023年由ASML提供給imec，2026年量產。

不過，本月與媒體交流時，ASML似乎暗示這個進度要提前。第一台高NA EUV曝光機2023年開放早期訪問，2024年到2025年開放給客戶進行研發並從2025年開始量產。

據悉，相較於當前0.33NA的EUV曝光機，0.55NA有了革命性進步，它能允許蝕刻更高解析度的圖案。

分析師Alan Priestley稱，0.55NA曝光機一台的價格會高達3億美元，是當前0.33NA的兩倍。

早在今年7月，Intel就表態致力於成為高NA曝光機的首個客戶，Intel行銷副總裁Maurits Tichelman重申了這一說法，並將高NA EUV曝光機視為一次重大技術突破。