首頁 光刻機 光刻機 的最新熱門文章 新聞 搶先台積電,Intel買下ASML首款最先進High-NA EUV曝光機、每小時200片以上晶圓產能 MikaBrea 發表於 2022年1月20日 09:30 Plurk 英特爾(Intel)已向艾司摩爾(ASML)下訂業界首台 TWINSCAN EXE:5200 High-NA 極紫外光(EUV)曝光機大量生產系統,每小時將具備 200 片以上晶圓產能。 新聞 全球半數 EUV 光刻機都在台積電手上,半導體技術領先秘密在 ASML MikaBrea 發表於 2020年9月08日 09:30 Plurk 台積電(TSMC)在半導體生產上處於全球領先地位,但其背後最重要的合作夥伴 ASML(艾司摩爾),其 EUV 曝光機(光刻機)所帶來的優勢功不可沒。 上一頁1下一頁
新聞 搶先台積電,Intel買下ASML首款最先進High-NA EUV曝光機、每小時200片以上晶圓產能 MikaBrea 發表於 2022年1月20日 09:30 Plurk 英特爾(Intel)已向艾司摩爾(ASML)下訂業界首台 TWINSCAN EXE:5200 High-NA 極紫外光(EUV)曝光機大量生產系統,每小時將具備 200 片以上晶圓產能。
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