分析師認為，製造和銷售世界上最先進晶片製造裝置的荷蘭公司 ASML 明年可能會減少很一大部分訂單。
先前 ASML 透露過，將在今年年底前交付業界首台高 NA 極紫外（ EUV ）曝光機，這對下一代EUV 的開發是一個充滿希望的訊號。這台機器是 0.55 孔徑 (NA) Twinscan EXE:5000 測試機種 ，是為晶片製造商開發的，以便他們學習如何高效地使用高 NA 極紫外光曝光技術。
在這些研發工作之後，預計將於 2025 年開始批次生產使用高 NA 的晶片，屆時 ASML 將開始交付商業級 Twinscan EXE:5200 。
ASML 是唯一一家生產晶片製造裝置曝光機的公司，是世界上最搶手的工業產品之一，被台積電和英特爾公司等世界領先的晶片製造商廣泛使用。而明年預計他們用來生產3奈米以下晶片的曝光機 NA EUV被視為是重點裝置，不過，分析師郭明錤認為，明年度3奈米產品的需求可能會下跌，因此ASML看來可能會減少一部份的訂單。
以台積電來說，他們3奈米的客戶主要為蘋果、聯發科以及最近才接到的高通。不過，蘋果3奈米iPad和MacBook的需求下降，至於高通3奈米晶片訂單，則因華為放棄該公司產品而減少。至於台積電以外，三星晶圓代工的3GAP+產品和英特爾的20A產品需求下降，以及記憶體製造商原本預計會到來的擴張時間延後，預計也將導致2024年的出貨量預測下降。
在 ASML 的第二季度財報中，該公司實現營收 69 億歐元，淨利潤 19 億歐元。該公司出貨了 13 台 EUV 機器，從而獲得了 20 億歐元的收入。該公司管理層還表示，由於晶片行業發展放緩，EUV出貨時間有所延遲，ASML 現在計畫在 2023 年全年出貨 52 台系統。這一削減也將 ASML 2023 年的 EUV 收入增長預期降低了近一半，因為該公司現在預計 EUV 收入將增長 25%，而不是之前預計的 40%。
在2023年第一季度的財報電話會議上，ASML曾打算出貨60台EUV裝置，因為該公司第二季度的收入預期為65億歐元，第一季度出貨了9台EUV裝置。
ASML 首席執行長 Peter Wennink 在第二季度財報的視訊訪談中對目前晶片行業的低迷發表了看法，他解釋說：「我們的客戶對我們的產品非常感興趣，但這意味著我們的客戶仍在處理相對較高的庫存。應對庫存高的結果，基本上就是減少晶圓產量。也出意味著我們的工具利用率也會降低。」
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