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ASML表示，總體而言，High NA EUV曝光機方面發展勢頭良好，客戶興趣濃厚，而且良好地達到了客戶預期。
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按照Intel的最新官方資料，Intel 3相比於Intel 4縮微縮小了約10％(可以理解為電晶體尺寸)，每瓦性能(也就是能效)則提升了17％。
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