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ASML公佈下一代"Hyper-NA"極紫外光刻技術發展路線圖

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台積電表示，其在日本取得的成就歸功於「供應商、客戶、商業夥伴、政府和學術界」的支持。該公司補充說，其在不同國家的計畫本質上沒有可比性。

Intel已於日前接收了ASML的第一台新一代High NA EUV曝光機，但是台積電一直不為所動。

這套裝置的工作原理和ASML的曝光機不同，並不利用光學圖像投影的原理將積體電路的微觀結構轉移到矽晶圓上，而是更類似於印刷技術，直接通過壓印形成圖案。

由於3nm製程需求低迷 2024年ASML EUV曝光機出貨量可能下降30%

台積電這家全球最大的晶圓代工商正在延期裝置接收，作為削減成本的措施，同時更好地處理客戶需求。

在2023年的剩餘時間裡，ASML將能繼續出貨其NXT:2000i和更先進的DUV型號的產品。換言之，中國的晶片廠還有4個月時間可以從ASML進口設備。

ASML是全世界唯一能生產EUV的企業，EUV又是讓當前世界頂級半導體廠保持競爭力的關鍵。因此，即使各大廠區都在縮減資本支出，基於擔心落後對手的原因，也絕不可能砍掉對ASML的訂單。

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