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Intel拿下全球第二台High NA EUV曝光機 價值3.83億美元

ASML表示，總體而言，High NA EUV曝光機方面發展勢頭良好，客戶興趣濃厚，而且良好地達到了客戶預期。

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按照Intel的最新官方資料，Intel 3相比於Intel 4縮微縮小了約10％(可以理解為電晶體尺寸)，每瓦性能(也就是能效)則提升了17％。

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台積電表示，其在日本取得的成就歸功於「供應商、客戶、商業夥伴、政府和學術界」的支持。該公司補充說，其在不同國家的計畫本質上沒有可比性。

Intel已於日前接收了ASML的第一台新一代High NA EUV曝光機，但是台積電一直不為所動。

這套裝置的工作原理和ASML的曝光機不同，並不利用光學圖像投影的原理將積體電路的微觀結構轉移到矽晶圓上，而是更類似於印刷技術，直接通過壓印形成圖案。