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Lam Research 科林研發推出 Lam Cryo 3.0 低溫介電層蝕刻技術，利用超低溫、高功率侷限電漿反應器技術和創新的表面化學製程，以超群的精度和輪廓控制進行蝕刻。

科林研發自1995年設立論文獎暨傑出科技獎學金，促進半導體學術研究、持續推動台灣半導體人才教育。科林研發論文獎暨傑出科技獎學金由各校自行於每年第二季或第三季公告詳細辦法，並於第四季進行論文審查與頒獎。