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新聞 Lam Research 科林研發推出 Lam Cryo 3.0 低溫蝕刻技術，加速 3D NAND 在 AI 時代的微縮 ycr 發表於 2024年8月17日 07:30 Plurk Lam Research 科林研發推出 Lam Cryo 3.0 低溫介電層蝕刻技術，利用超低溫、高功率侷限電漿反應器技術和創新的表面化學製程，以超群的精度和輪廓控制進行蝕刻。
