Appier展示AI在服裝設計領域的創造力

許多人認為，人工智慧技術的下一個重大突破將實現在其創造與設計能力，而 Appier 這次的研究成果則實踐了該想法 — 在不久的將來，AI 將能掌握設計脈動並貢獻各種創意構想，成為設計師的得力助手。

今年代表 Appier 參與 AAAI 的研究團隊是由 Appier 資料科學家施詠翔、張楷岳、Appier 首席資料科學家林軒田和國立清華大學電機系孫民教授所組成。團隊透過深度學習技術設計 Projected Compatibility Distance (PCD) 數學模型去自動學習與分析服飾搭配原則，了解服飾造型之間的搭配關係與技巧，讓機器擁有類似人類的創意以及穿搭思維。

同時，團隊將 PCD 模型接上生成對抗網路 (Generative Adversarial Networks, GANs)，讓電腦透過辨識與分析現有的圖像，產生獨特新穎的設計服飾。這些由 AI 所設計的服飾，能夠真實反映出設計師的創意理念與搭配技巧。

▲ Appier 於2018美國人工智慧年會(AAAI)中展示 AI 在服裝搭配與設計領域的創造力

Appier 執行長暨共同創辦人游直翰表示：「這次 Appier 團隊的研究成果，展現了 AI 在實現創造力方面的重大進展。一直以來，Appier 希望將 AI 帶到人類生活的各個面向，其中也包含了創意的展現。不過，這並不代表 AI 將帶來威脅，相反地，它將能為設計師提供許多協助。在 Appier，我們鼓勵所有員工針對各種具有研究價值與發展潛力的 AI 創新研究專案與學界進行交流，進而消弭產學間的資訊落差。這次團隊所合力完成的前瞻性研究論文能被 AAAI 所收錄，就是一個藉由產學合作激發 AI 創新研發能量的實例。」

Appier 首席資料科學家林軒田表示：「Appier 將人工智慧運用在克服『服飾搭配與設計』這個挑戰，主要是因為服飾穿搭本身就有一定的複雜程度，而這個應用在商業領域也具有相當大的發展性。因此，我們運用深度學習模型以及生成對抗網路 (GANs)，來驗證 AI 在創意面向所展現的潛力。在實驗中，由 AI 所設計與搭配的服飾很輕易地就獲得大多數受試者的喜愛，給了我們很大的鼓舞！」

由 Appier 研發團隊所撰寫並以「Compatibility Family Learning for Item Recommendation and Generation」為主題之論文，可至此處下載。