首頁 奈米壓印 奈米壓印 的最新熱門文章 新聞 佳能的奈米壓印微影 NIL 技術來勢洶洶，能取代 ASML 的 EUV 曝光技術嗎？ cnBeta 發表於 2025年3月19日 08:30 Plurk 探索晶片製造的未來：深入了解 ASML 的 EUV 光刻技術如何引領晶片微型化，以及佳能的奈米壓印技術如何挑戰現狀。分析兩種技術的原理、優勢與挑戰，展望晶片技術的發展趨勢。 新聞 High NA EUV 曝光機組裝流程大幅改進，英特爾確認 ASML 第二台 High NA EUV 曝光機完成安裝 KKJ 發表於 2024年10月11日 09:30 Plurk 英特爾確認 ASML 第二台 High NA EUV 曝光機完成安裝 上一頁1下一頁
新聞 佳能的奈米壓印微影 NIL 技術來勢洶洶，能取代 ASML 的 EUV 曝光技術嗎？ cnBeta 發表於 2025年3月19日 08:30 Plurk 探索晶片製造的未來：深入了解 ASML 的 EUV 光刻技術如何引領晶片微型化，以及佳能的奈米壓印技術如何挑戰現狀。分析兩種技術的原理、優勢與挑戰，展望晶片技術的發展趨勢。
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